uv光解除臭設(shè)備基本原理：

一、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣，裂解工業(yè)廢氣如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對(duì)工業(yè)廢氣及其它刺激性異味有立竿見(jiàn)影的清除效果。
三、工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解工業(yè)廢氣中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到凈化及殺滅細(xì)菌的目的。

應(yīng)用領(lǐng)域：
煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

安裝注意事項(xiàng)：
①為確保設(shè)備的效果和使用者的安全，操作者必須嚴(yán)格按照本說(shuō)明書(shū)的要求，正確使用本設(shè)備。
②開(kāi)機(jī)前應(yīng)先檢查電源連接情況，除臭設(shè)備活動(dòng)門(mén)是否關(guān)緊嚴(yán)密。
③設(shè)備內(nèi)部在工作時(shí)帶有光輻射及電流，在切斷總電源前，嚴(yán)禁拆卸檢修面板和電氣接線箱。
④必須在設(shè)備安裝完畢、抽風(fēng)機(jī)正常工作，設(shè)備的除臭設(shè)備裝置才可以啟動(dòng)。
⑤為保證設(shè)備的安全，用戶必須在設(shè)備的出風(fēng)口位置加裝合格的防火閥，并定期進(jìn)行維護(hù)及檢測(cè)